行研数据库
-
图表数据 - 产业概述
- 竞争格局
- 技术变革
- 行业数据
- 政策法规
- 商业模式
- 产业链
- 市场容量
- 图说行业
-
研究报告 - 行业精选
- 投资策略
- 公司研究
- 原创报告
- 原创图表
- 全文检索
- 目录查询
- 专题报告
- 数说行业
-
产业数据 - 深度新闻
- 产业图谱
- 产业标签
- 产业数据
- 行业榜单
- 品牌数据
- 行业政策
- 行业标准
- 行业会展
创投数据库
-
创业投资 - 国内项目
- 海外项目
- 独角兽
- 创投机构
- 机构战绩
- 创投动态
- 热门赛道
- 热门机构
-
基金备案 - 创投管理人
- 证券管理人
- 其他管理人
- 创业基金
- 股权基金
- 证券基金
- 金融机构
- TOP500
-
城市经济 - 数据分析
- 基本信息
- 经济数据
- 投资基金
- 上市公司
- 特色企业
- 宏观数据
- 央企数据
- 创投全景
证券数据库
-
招股书 - 中国主板
- 中国科创板
- 中国创业板
- 新三板
- 香港主板
- 纽交所中概股
- 纳斯达克中概股
- 中介机构
-
证券研究 - 个股查询
- 行业板块
- 概念板块
- 机构调研
- 股票交易
- 外汇数据
- 期货数据
- 热门板块
-
上市发行 - 新股上会
- 最新申报
- 上会通过
- 暂缓表决
- 取消审核
- 上市辅导
- 新股上会
商业数据库
-
专业数据 - 城市经济数据库
- 创业投资数据库
- 中央企业数据库
- 行业研究数据库
行业研究数据库
行业图谱研究
行业深度新闻
创业投资数据库
知名创投机构
重点项目动态
证券研究数据库
中国宏观数据
区域上市企业
如何才能知道ASMLEUV光刻机情况如何?
2021-10-11
先进制造 | 行业数据
第五，保护掩模板。在193nm液浸式光刻机中，掩模版由一层被薄膜（即护膜）保护着，这层薄膜距离掩模版有一点悬空的距离，像保鲜膜一样紧绷在上方，其作用在于当灰尘落在护膜上时影响聚焦而不能在晶圆上形成图案，因此不会损坏整个晶圆。但193nm的护膜不适用于13.5nm的光，EUV会损坏护膜，若不使用护膜则很可能是最终良率为0。所以解决这个难题的关键在于研究制造出能够抵抗EUV破坏的护膜。
半导体
登录网站查看更多数据
行业相关推荐
行业图谱
